Heming Technologie -IPC "Reinigungsanleitung" Norm Einheit President, Forschung und Entwicklung Produktion und Vertrieb von elektronischen Herstellungsreinigungsmittel, Wasser-basierte Reinigungsanlagen, nationale High-Tech-Unternehmen, Flussmittel, Lotpasten. ??? 20 Jahre auf Gesch?ft konzentrieren, Elektronik-Fertigung Erfahrung haben wir verschiedene Bereiche zu erkunden in einer aktuellen Anwendung. Reinigen des SMT-Prozess, PCBA Reinigung, Stahlnetz, Kupfergeflecht und Kunststoffgitter Reinigung, SMT Wartung der Ausrüstung, Reflow, Wellenl?ten und Wartung, und viele andere Anwendungen, um die Leistungselektronik und die Montage Reinigung. I. Einleitung ??? W1200 ist ein neutrales Wasser basierende Reinigungsmittel, die speziell für die Reinigung von Aluminiumschale oder Befestigung an Flussmittel und andere Rückst?nde gebacken werden entwickelt. Vor allem geeignet für Ultraschallreinigung, Einweichen und Handreinigungsmethoden. Das Produkt verwendet unsere patentierte Technologie durch hervorragende Materialvertr?glichkeit entwickelt, kann für eine Vielzahl von Reinigung empfindlicher Metallmaterialien verwendet werden. Geruchsarm, halogenfrei, kein Blitz. Als elektronische Produkte klein, leicht, pr?zise orientierten Entwicklung wird elektronische Reinigung in der Produktion immer mehr an Bedeutung, im Gegensatz zu herk?mmlichen Reinigungsmitteln, W1200 auf Wasserbasis Reinigungsmittel, die vollst?ndige Beseitigung der Brandschutzprobleme, um besser auf die st?ndig verbessern Umweltsubstanzen Rating-Anforderungen, erfüllen die künftige Ausrichtung der Reinigungsbranche. Zweitens sind die Vorteile: 1, eine Vielzahl von Aluminium und anderen metallischen Werkstoffen haben sensiblen Sicherheits Kompatibilit?t, zur L?sung der alkalischen Wasser basierende Reinigungsmittel ist es nicht gelungen, das Problem zu überwinden. 2, mit VE-Wasser als L?sungsmittel, kein Blitz, sicher, ohne zus?tzliche Ma?nahmen Beweis. 3, enth?lt keine VOC-Komponenten, um regulatorische Anforderungen im Zusammenhang VOC-Emissionen zu erfüllen. 4, leichte Duft, PH-Wert neutral, sicheren Betrieb, keine zus?tzlichen Schutzma?nahmen, der Bediener leicht zu akzeptieren. 5, da es ein Konzentrat gem? der Rückstand kann nach dem Grad der Schwierigkeit gereinigt werden, die Verwendung von verschiedenen Anteilen verdünnten Reinigungs. 6, Erw?rmen der Reinigungsflüssigkeit (40-50 ℃) oder durch Verwendung von Ultraschall-Reinigung kann die Reinigungszeit stark verkürzt werden. Drittens die Anwendung? W1200 in der Ultraschall-Reinigungsverfahren verwendet werden, die manuelle Reinigung Methoden und genie?en die Reinigung Verfahren zur Reinigung von Aluminiumschale oder Befestigung auf Fluss gebacken werden, für alle Arten von Flussmittel und Lotpaste Rückst?nde eine gute L?slichkeit, Effekte anwenden unterhalb Liste aufgeführt. Anwendungen: Reinigung und Pflege von wasserl?slichen Lotpaste Flussmittelrückst?nde Rest ★★★ ★★★ ★★★ Kolophoniumbasis Flussmittelrückst?nde geringen Feststoffflussmittelrückst?nde ★★★ ★ geraucht synthetischen Flusskontamination ★★★ ★★★: Dringend empfohlen, die besten Ergebnisse; ★★: Empfohlen; ★: m?glich; O: nicht empfohlen. Viertens kann ein Reinigungsverfahren, Ultraschall-Reinigungs ??? Bei der Ultraschallreinigung, die Aluminiumbefestigung werden in den Reinigungstank eingetaucht werden, die Verwendung von Ultraschall-Kavitation in der Reinigungsmittel, Beschleunigungswirkungen und die Rolle der Luftstr?mung und Reinigungsmitteln Super L?slichkeit von Schmutz kombinieren, um die Schmutzschicht aufgel?st, dispergiert, emulgiert oder Schale um den Zweck der Reinigung zu erzielen. 2, Einweichen manuelle Reinigung und manuellen Reinigungsmodus bezieht sich auf die Art der Reinigungsflüssigkeit auf der Oberfl?che des Werkstücks oder das Werkstück in die Reinigungsl?sung nach dem Einweichen besprüht und dann manuell Wischen oder Bürsten. Zur Reinigung und Pflege, wird die manuelle Reinigung Ausrüstung besser bekannt als ein Reinigungsverfahren verwendet wird, ist das Verfahren sehr einfache Bedienung, Reinigungsger?te Anforderungen relativ niedrig sind.